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    當前位置:首頁產品中心膠體磨高剪切膠體磨GMSD2000隔膜分散高速納米膠體磨

    隔膜分散高速納米膠體磨

    產品簡介

    隔膜分散高速納米膠體磨,研發出了二者相結合的研磨分散機,其磨頭結構采用錯齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉子部分間隙理論上能夠實現無限接近,再配合超高轉速,當顆粒進入磨頭腔體之后,瞬間即可被超微粉碎。

    產品型號:GMSD2000
    更新時間:2025-08-04
    廠商性質:生產廠家
    訪問量:21
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    隔膜分散高速納米膠體磨,制作電池隔膜的分散工藝有以下要求:

     均勻分散 :隔膜材料中的各種組分需要均勻分散,以確保隔膜的性能一致性和穩定性。

     控制孔徑和孔隙率 :隔膜的孔徑和孔隙率對電池性能有重要影響??讖叫枰鶆蚯疫m中,以保證鋰離子的順利通過和防止正負極短路。

     保持材料的完整性 :在分散過程中,要避免材料的過度剪切和破壞,以保持隔膜材料的完整性和力學性能。

     避免雜質引入 :分散工藝需要在潔凈的環境中進行,以防止雜質的引入,影響隔膜的性能和電池的安全性。

     能耗和成本控制 :在保證隔膜性能的同時,還需要考慮分散工藝的能耗和成本,以實現經濟效益。

    隔膜分散高速納米膠體磨


    思峻在傳統膠體磨與均質機的基礎上,研發出了二者相結合的研磨分散機,其磨頭結構采用錯齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉子部分間隙理論上能夠實現無限接近,再配合15000RPM的超高轉速,當顆粒進入磨頭腔體之后,瞬間即可被超微粉碎。從磨頭腔體出來后進入分散盤腔內,根據物料的特性及處理量的要求,提供2G,4M,6F,8SF不同規格的斜齒,對磨細的顆粒進行二次剪切和分散,防止顆粒抱團。

    隔膜分散高速納米膠體磨


    高速研磨分散機, 線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓錐形,具有精細度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向。第二組由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力(可有泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,通過高速研磨分散機定轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉子,好的表面處理和優質材料,可以滿足不同行業的多種需求。


    模塊化設計的主要特點如下:

    -直立式腔體結構,物料可以全部進入分散腔;

    -良好的表面處理;

    -符合CIP/SIP的清洗要求;

    -低噪音;

    -所有接觸物料的材質均為SS316;

    -小試、中試到量產,平穩過渡;

    -僅需簡單的更換功能模塊,即可滿足分散-懸浮-均質-乳化的不同要求;

    -衛生設計,適合食品及制藥行業;

    -可提供特殊材質滿足磨損性及腐蝕性產品處理要求。



    隔膜分散高速納米膠體磨型號表:

     

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW


    GMSD2000/4

    400

    14,000

    44

    4

    DN25/DN15

    GMSD2000/5

    1000

    10,050

    44

    11

    DN40/DN32

    GMSD2000/10

    3000

    7,500

    44

    22

    DN80/DN65

    GMSD2000/20

    8000

    4,900

    44

    45

    DN80/DN65

    GMSD2000/30

    20000

    2,850

    44

    90

    DN150/DN125

    GMSD2000/50

    60000

    1,100

    44

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。




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